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        Product laser

        產(chǎn)品中心
        晶圓激光清洗/減薄設(shè)備
        產(chǎn)品簡介
        以精密的激光微處理技術(shù)替代晶圓制造中的濕刻及化學(xué)機械研磨工藝,從而實現(xiàn)晶圓表面各種薄膜的去除,并保證晶圓表面良好的微觀質(zhì)量。
        產(chǎn)品特點

        薄膜去除深度靈活,最小支持深度0.33μm

        支持晶圓制造中各類無機/金屬薄膜去除,如:oxide/nitride/poly si/metal

        優(yōu)異的平整度均勻性,表面幾乎零缺陷

        精密的激光控制系統(tǒng),熱影響小

        零耗材、低污染,成本優(yōu)勢明顯

        產(chǎn)能優(yōu)異

        兼容8~12寸晶圓

        應(yīng)用領(lǐng)域
        裸晶圓、控片、測試片、擋片
        技術(shù)指標
        設(shè)備型號 DR-S-WLC200 DR-S-WLC300 DR-S-WLT200 DR-S-WLT300
        適用晶圓尺寸 8 12 8 12
        激光能量密度 ≥30J/cm2 ≥80J/cm2
        激光輸出穩(wěn)定性  5%RMS4hrs
        移除深度 2-10μm 2-10μm 30-100μm 30-100μm
        TTV ≤2μm ≤3μm ≤8μm ≤15μm
        區(qū)域平整度(20*20 ≤0.15μm ≤0.3μm ≤1μm ≤2μm
        設(shè)備產(chǎn)能 ≥25 ≥15 ≥40 ≥25
        應(yīng)用案例
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